原位无线测温晶圆系统
原位无线测温晶圆系统支持监测干式，浸入式和 EUV 光刻扫描仪。该系统可以产生高精度的晶圆温度 时空数据，可以帮助光刻工程师监测影响图案套刻效果的光刻机温度变化。该系统采用标准厚度（12 英寸） 的晶圆模式，可用于监测光刻机的温度均匀性和稳定性，精度高，噪声低，可用于光刻机的鉴定和匹配。
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原位无线测温晶圆系统
产品概述
原位无线测温晶圆系统支持监测干式，浸入式和 EUV 光刻扫描仪。该系统可以产生高精度的晶圆温度 时空数据，可以帮助光刻工程师监测影响图案套刻效果的光刻机温度变化。该系统采用标准厚度（12 英寸） 的晶圆模式，可用于监测光刻机的温度均匀性和稳定性，精度高，噪声低，可用于光刻机的鉴定和匹配。
产品特点
1、精度高，应用灵活，采样速度快；
2、扫描速度高达 4Hz，温度准确度优于 10mK；
3、采用点对点无线通讯方式。
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沪ICP备2023002235号
