RTD-Wafer 测温系统
RTD-Wafer 测温系统可提供高精度、原位热板温度测量，支持光刻胶跟踪系统和晶圆探测器等工艺。 该系统可直接测量晶圆温度的稳定性和均匀性，而不依赖接触式温度传感器。利用该系统，光刻工程师可 测量和微调光刻胶烘烤温度均匀性，确保先进的光刻工艺满足实现高良率所需的温度精度。
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RTD-Wafer 测温系统
产品概述
RTD-Wafer 测温系统可提供高精度、原位热板温度测量，支持光刻胶跟踪系统和晶圆探测器等工艺。 该系统可直接测量晶圆温度的稳定性和均匀性，而不依赖接触式温度传感器。利用该系统，光刻工程师可 测量和微调光刻胶烘烤温度均匀性，确保先进的光刻工艺满足实现高良率所需的温度精度。
产品特点
1、精度高，采集速度快，采集频率高达 8Hz；
2、晶圆上方不超过 2mm；
3、高稳定性，传感器不易脱落、断线。
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沪ICP备2023002235号
