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Wafer晶圆无线测温系统/ 半导体领域

Wafer晶圆无线测温系统可捕捉晶圆刻蚀工艺、环境对晶圆的影响,可在芯片制造的每个关键步骤中提供直接、实时的晶圆温度测量。借助这些全面的温度数据，工艺工程师可以表征和微调工艺条件，从而提高工艺设备性能、晶圆质量和产量。Wafer晶圆无线测温系统用于监测尖端产品生产工艺流程中温度变化情况，突破了技术封锁

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Wafer晶圆高温无线测温系统/ Wafer,晶圆,高温,无线,测温,系统

Wafer晶圆无线测温系统旨在优化和监控先进的薄膜工艺（FEOL和BEOLALD、CVD和PVD）、RTP快速退火以及其他高温工艺。Wafer晶圆无线测温系统可测量工艺设备的热均匀性，并提供在实际生产工艺条件下所采集的时间和空间温度数据。Wafer晶圆无线测温系统可以提供原位、实时的温度数据，帮助IC制造商准确调试制程设备，从而提高产量和良品率。

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四通道测温仪FB604/ 国产化替代

四通道测温仪 FB604 是公司国产化高精度测控温产品的主推产品之一，它将高精度电测技术、行业深度需求高度整合，全面解决了实验室温度传感器校准和检定，它具有精度高，使用方便等诸多优点。 FB604 可以测量铂电阻、热敏电阻，在计量、电力、石化、冶金、制药、生物及汽车制造等领域的运营、制造、科研工作中有着广泛的用途，它是温度检定测试的理想选择。

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低温精密控温仪/ 低温精密控温仪

低温精密控温仪是将高精度电测技术、精密控温技术高度整合，全面解决了高精度测温控温的需求，它具有测量精度高、控温精度高、采样速度快、控温速度快、使用方便等诸多优点。低温精密控温仪主要用于精确监控低温温度传感器系列，包括二极管、电阻温度检测器(RTD)。它具有四个传感器输入、四个控制输出，并进行编程以在比例积分微分(PID)模式下进行闭环温度控制。当温度范围超出给定传感器的可用范围时，控制器的区域调节功能会自动切换温度传感器输入，从而实现从300mK到670K以上的无缝温度控制。警报、继电器和模拟电压输出可帮助实现辅助控制功能的自动化。在低温领域、量子计算、大型工业生产、其他科研工作等都有着广泛的用途，它是低温检定测试、控制的理想选择。低温精密控温仪主要用于精确监控低温温度传感器系列，包括二极管、电阻温度检测器(RTD)。它具有四个传感器输入、四个控制输出，并进行编程以在比例积分微分(PID)模式下进行闭环温度控制。当温度范围超出给定传感器的可用范围时，控制器的区域调节功能会自动切换温度传感器输入，从而实现从300mK到670K以上的无缝温度控制。警报、继电器和模拟电压输出可帮助实现辅助控制功能的自动化。在低温领域、量子计算、大型工业生产、其他科研工作等都有着广泛的用途，它是低温检定测试、控制的理想选择。

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