掩膜无线测温系统
光掩膜又称光罩，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。在半导体芯片加工制造过程中,光掩膜版表面的温度均匀性要求非常高，需要严格的温度测量和控制。掩膜无线测温系统用于准确测量光掩膜版的温度分布。
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掩膜无线测温系统
产品概述
光掩膜又称光罩，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。在半导体芯片加工制造过程中,光掩膜版表面的温度均匀性要求非常高，需要严格的温度测量和控制。掩膜无线测温系统用于准确测量光掩膜版的温度分布。
产品特点
1. 体积小、精度高、采样速度快；
2. 温度准确度高达1mK；
3. 采用无线通讯方式，响应时间短。
温度范围 | 0℃ ~ 30℃ |
温度准确度 | 1mK（3σ） |
重复测量准确度 | ＜2mK（3σ） |
传感器响应时间 | ≤1s |
采集频率 | max.4Hz |
连续工作时间 | ≥100min |
传感器数量 | 14 |
通讯方式 | Wifi |
保修期 | 1年 |
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沪ICP备2023002235号
